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FON-Kompetenz auf internationalen Kongressen

PROFACTOR konnte bei der EMLC (European Mask and Lithography Conference) in Dresden erneut seine Kompetenz in Sachen Funktionelle Oberflächen und Nanostrukturen (FON) unter Beweis stellen. Die Konferenz ist die europäische Schwesterkonfernenz der PMJ (Photomask Japan) und des BACUS Annual Photomask Technology Symposium in den USA und damit eine der wichtigsten Fachkonferenzen zum Thema Lithographie und Maskentechnologie. Im Rahmen der Veranstaltung wurden zwei Vorträge gehalten. Außerdem wurde ein PROFACTOR-Fachbeitrag für die im April in Brüssel stattfindende SPIE Photonics Europe als Vortrag angenommen.

Vorträge bei der EMLC (Vortragender: Michael Mühlberger, PROFACTOR)
Using UV-based Nanoimprint Lithography to Fabricate Single and Multilayer Negative Index Materials
I. Bergmair, B. Dastmalchi, M. Bergmair, G. Hesser, M. Losurdo,G. Bruno, C. Helgert, E. Pshenay-Severin, T. Pertsch, E.-B. Kley, U. Hübner, R. Penciu, N.-H. Shen , M. Kafesaki, C.M. Soukoulis, K. Hingerl, M. Muehlberger
Nanoimprint activities in Austria in the research project cluster NILaustria
Michael Mühlberger, Hannes Fachberger, Iris Bergmair, Michael Rohn, Bernd Dittert, Rainer Schöftner, Thomas Rothländer, Dieter Nees, Alexander Fian, Ursula Palfinger, Anja Haase, Martin Knapp, Claudia Preininger, Gerald Kreindl, Michael Kast, Thomas Fromherz
Vortrag bei der SPIE Photonics Europe
UV-based nanoimprint lithography: a method to fabricate single and multilayer negative index materials 
I. Bergmair, B. Dastmalchi, M. Bergmair, G. Hesser, M. Losurdo, G. Bruno, C. Helgert, E. Pshenay-Severin, T. Pertsch, E.-B. Kley, U. Hübner, R. Penciu, N.-H. Shen , M. Kafesaki, C.M. Soukoulis, K. Hingerl, M. Muehlberger

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